6．3．4．1基础釉的制备
基础釉即低熔点玻璃，由于色釉要求色泽鲜艳，使用的原料要纯净，铁等杂质含量一定要在0．01％～0．02％范围内，或更少。基础釉的成分中常用氧化铅，熔制过程中，氧化铅是容易挥发的，坩埚窑挥发率约3％～5％，池窑挥发率高达10％～20％，造成原料的损失而增加成本，并严重污染...
基础釉即低熔点玻璃，由于色釉要求色泽鲜艳，使用的原料要纯净，铁等杂质含量一定要在0．01％～0．02％范围内，或更少。基础釉的成分中常用氧化铅，熔制过程中，氧化铅是容易挥发的，坩埚窑挥发率约3％～5％，池窑挥发率高达10％～20％，造成原料的损失而增加成本，并严重污染...
